Estancia de una investigadora de Tecnalia en un laboratorio de CEA-List

logo CEA_listLa investigadora Alejandra Ruiz (TECNALIA), que participa en el Etortek CPS4PSS dentro del PT3. Ciberseguridad & Safety, ha realizado una estancia de siete semanas de duración (del 15 de junio al 31 de julio) en un centro de referencia internacional, como es el laboratorio LISE (Laboratory for Model Driven Engineering of Embedded Systems) que forma parte de los laboratorios de investigación de CEA-List en Francia.

El laboratorio LISE está llevando a cabo investigación básica en la aplicación de métodos de ingeniería dirigido por modelos (model-driven) y herramientas para el desarrollo de sistemas ciber-físicos complejos, incluyendo en particular Papyrus, la herramienta de modelado UML apoyado por la Fundación Eclipse y Sophia, la extensión de Papirus para análisis de seguridad 8safety) basado en el modelo.

Sistemas ciber-físicos modernos hacen referencia a varios dominios, incluyendo la automoción, ferrocarril, energía, etc. Tales sistemas complejos deben satisfacer ciertos requisitos, incluyendo la seguridad (safety). La ingeniería dirigida por modelos es un enfoque prometedor para el desarrollo y análisis de sistemas complejos. Entornos MBSE ofrecen marcos convenientes para integrar diferentes puntos de vista de análisis dedicado dentro de un entorno de diseño global.

En este contexto, CEA colaborará con TECNALIA en el desarrollo de métodos y herramientas para permitir el análisis de seguridad dirigido por modelos (model-driven) y la certificación del sistema.

 El alcance de la estancia incluye varios objetivos:

  • Realizar un análisis comparativo de los enfoques para el análisis de la seguridad basado en modelos incluyendo los implementados en Sofía y PROSSURANCE y proponer un método para el análisis de la seguridad basado en modelos y la certificación del sistema para múltiples dominios.
  • Validar el método propuesto mediante un caso de estudio dentro del dominio del automóvil.
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Publicado en 8. Cooperación Internacional, 8. Difusión

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